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影响等离子体表面处理仪处理效果工艺参数说明

日期:2022-04-26 16:16:45

影响等离子表面处理仪处理效果的工艺参数有很多处理。处理主要处理包括,工艺气体流量,射频功率,温度,处理时间和真空压力值处理。


(1) 功率:等离子体的密度和能量与射频功率成正比关系,所以在处理时应该增大处理功率从而提高处理的程度以及处理的效率,但当功率过大,离子温度会上升,在高温条件下金属基片或其他易被氧化的物质会被氧化从而被破坏,另外不耐高温零件例如塑料等也会损坏,因此在处理之前可以借助模拟合理选择需要的功率,既要满足经济性要求又要保证处理效果以及处理的效率。


(2) 时间:通常在保证处理效果的同时需要的时间越少越好以提高处理的效率,但所用时间是与各个参数之间相互关联的。一般来说,功率越大,所需要处理的时间就会越短,但相应的功耗也会越大,功率的增大会使反应腔体与零件的温度升高,同时也会造成其他的多种问题,例如零件被破坏、发生刻蚀等。因此需要不断摸索处理时间、功率、压力以及气体种类和配比的关系选择一个最佳的处理工艺。


(3) 温度:在等离子处理中,工件温度会在离子的轰击作用下变高,所以工件的温度会受到射频功率和处理时间的影响。根据国内外研究表明射频频率与温度成反比;与射频功率成正比;时间越长温度越高。对于不同材料,温度有着不同要求,金属件一般无特殊要求但要注意防止金属氧化,非金属如塑料等温度要低防止变形。


(4) 压强:真空腔体内的压强在设备运行的过程中主要受漏气率,充气及抽气速度影响。针对不同的材料以及需要去除的污染物不同,所需压强也是不同的。当充入氩气、氮气等非反应性稀有气体时,此时的处理主要靠离子的物理轰击作用,此时可以通过增大抽速或者减小充气速度,来保证真空室在较低的压力,压强低可以保证离子具有较高的能量轰击到基片表面以增强处理效果;但是工作压力不能过低,当压力太低时,离子浓度变低没有足够的离子轰击器件表面,也会影响处理效果。当以化学处理为主时,要适当提高处理时的工作压力此时应该是通过增大充气流量实施以增大反应腔体内的反应气体浓度,使较多的离子参与化学反应以保证处理的效果。


在等离子处理时,影响处理工艺的参数中,真空处理压力值由仓体本身焊接密封性等决定,选择合适的处理真空泵达到的真空压力值一般已成为定值,工艺气处理体选择处理、处理工艺气体流量大小处理、处理射频功率处理、处理处理时间等都处理可以根据工艺要求在等离子处理设备屏幕上很简便处理地调节数值,达到合理的匹配,获得较好的处理效果处理。